濺射是一種先進(jìn)的薄膜材料制備技術(shù), 它利用離子源產(chǎn)生的離子, 在真空中加速聚集成高速離子流, 轟擊固體表面, 離子和固體表面的原子發(fā)生動(dòng)能交換, 使固體表面的原子離開(kāi)靶材并沉積在基材表面, 從而形成納米或微米薄膜。而被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料, 稱為濺射靶材。鎢靶材和鉬靶材可在各類基材上形成薄膜, 這種濺射膜廣泛用作電子部件和電子產(chǎn)品, 如目前廣泛應(yīng)用的TFT - LCD ( 薄膜半導(dǎo)體管-液晶顯示器)、等離子顯示屏、無(wú)機(jī)光發(fā)射二極管顯示器、場(chǎng)發(fā)射顯示器、薄膜太陽(yáng)能電池、傳感器、半導(dǎo)體裝置以及具有可調(diào)諧功函數(shù)CMOS(互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體)的場(chǎng)效應(yīng)晶體管柵極等 。
愛(ài)科麥可生產(chǎn)的鎢濺射靶材包括鎢平面靶材和鎢旋轉(zhuǎn)靶材，以配合不同型號(hào)的磁控濺射設(shè)備使用。在使用過(guò)程中，鎢旋轉(zhuǎn)靶材的利用率遠(yuǎn)大于鎢平面靶材。
由于鎢材料加工難度較大，目前我公司可生產(chǎn)的鎢旋轉(zhuǎn)靶材長(zhǎng)度限于1.2米以內(nèi)。
由于使用了熱等靜壓技術(shù)，愛(ài)科麥生產(chǎn)的鎢旋轉(zhuǎn)靶材的密度接近理論密度，其組織均勻性及純度等指標(biāo)均受到了客戶好評(píng)。
衡量靶材的質(zhì)量主要因素有 純度、致密度、晶粒尺寸及分布等。在這些方面，愛(ài)科麥投入了大量的資金和精力進(jìn)行研發(fā)并取得了顯著成效。并形成了具有以下特點(diǎn)的生產(chǎn)工藝（1）選擇高純鎢粉作為原料; ( 2)獨(dú)有的成形燒結(jié)技術(shù), 以保證靶材的低孔隙率, 并控制晶粒度; ( 3)制備過(guò)程嚴(yán)格控制雜質(zhì)元素的引入。（4）對(duì)部分高要求產(chǎn)品采用熱等靜壓方法，*大程度地獲得了鎢旋轉(zhuǎn)靶材的良好性能。 此方法制得的鎢靶材獲得了18.6以上極高密度細(xì)晶粒產(chǎn)品。