濺射是一種先進(jìn)的薄膜材料制備技術(shù), 它利用離子源產(chǎn)生的離子, 在真空中加速聚集成高速離子流, 轟擊固體表面, 離子和固體表面的原子發(fā)生動(dòng)能交換, 使固體表面的原子離開(kāi)靶材并沉積在基材表面, 從而形成納米或微米薄膜。而被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料, 稱(chēng)為濺射靶材。鎢靶材和鉬靶材可在各類(lèi)基材上形成薄膜, 這種濺射膜廣泛用作電子部件和電子產(chǎn)品, 如目前廣泛應(yīng)用的TFT - LCD ( 薄膜半導(dǎo)體管-液晶顯示器)、等離子顯示屏、無(wú)機(jī)光發(fā)射二極管顯示器、場(chǎng)發(fā)射顯示器、薄膜太陽(yáng)能電池、傳感器、半導(dǎo)體裝置以及具有可調(diào)諧功函數(shù)CMOS(互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體)的場(chǎng)效應(yīng)晶體管柵極等 。
碳化鎢靶材多用于以磁控濺射方法在刀具等表面制作超硬耐磨涂層。
碳化鎢靶材以粉末冶金中燒結(jié)法制成，制作碳化鎢靶材中采用熱等靜壓工藝產(chǎn)品效果更佳。